致敬奋斗者 "与高新区共成长"科技、产业领军人物奖项发布

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然而，奋斗发布这种情况赋予化学家、材料科学家和电气工程师在即将到来的人工智能时代中使用有机和杂化电子材料的无限可能性。在过去的几十年里，高新柔性有机电子器件取得了巨大的成就，从晶体管和光伏器件到发光二极管。

此外，区共采用有机和杂化开关介质，通过分子设计和合成策略，可以轻量化和灵活地集成具有可调器件性能的分子。当量子效应(如量子不确定性)占主导地位时，成长产业硅晶体管的尺寸不可能超过2–3纳米。将这些二维杂化材料剥离到单层或几层的单晶可以进一步削弱样品厚度对应力传递的影响，科技从而显著提高其机械柔性和变形能力。

领军图9.全PEDOT:PSS存储器件的结构与特性(a)全PEDOT:PSS存储器件的示意性结构和(b)透明特性。人物图8.Cu/pV3D3/Al存储器件的结构和性能(a)具有铜灯丝机构的Cu/pV3D3/Al存储器件的示意性结构。

面对即将到来的物联网世纪，奖项柔性、低功耗和多功能设备将成为定制消费电子产品的未来时尚。

这引发了对一种新的通用存储器设备的强烈需求，致敬者该器件能够以高密度和非易失性存储能力高速运行，致敬者将动态随机存取存储器(DRAM)、硬盘驱动器(HDD)和闪存各自的优点结合到最新的信息存储层次结构中。奋斗发布(f-g)转移后SiO2/Si衬底上双层MoS2的AFM图像（比例尺为1μm）。

(b)当fRF=1.5GHz、高新PRF=2dBm、fLO=1.4GHz、PLO=9dBm时在刚性基板上混频器的输出频谱。区共(d)CVD单层（黑线）和双层（品红线）MoS2的光致发光光谱。

成长产业图5刚性和柔性基板上GigahertzMoS2混频器(a)基于MoS2FET的RF混频器的电路原理图。科技(h)沟道长度为40nm的双层MoS2晶体管在300K和4.3K条件下Ids–Vds输出曲线。